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簡要描述:英國Ossila Spin Processor,操作簡單,方便實用,旋涂均勻,結構小巧緊湊,為實驗室提供了理想的解決方案,其采用創新設計的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果。可對大小不同規格的基材都可進行旋涂,尤其是對超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到完美的旋涂效果。不會出現真空吸盤旋涂較薄的基材襯
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英國Ossila Spin Processor
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